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单晶硅中子辐照嬗变掺杂

发布时间:2023-04-16 09:44:37

发布单位:中国核动力研究设计院

规格型号/牌号:直径8英寸及以下尺寸单晶硅锭或片

关键字: 单晶硅; 中子辐照嬗变掺杂;

应用领域:无机非金属材料;

先进程度:国内领先

技术成熟度:八级

自主可控:

知识产权类型:专有技术

知识产权:

专利名称 专利类型 专利号 授权时间

技术来源:自主研发

标准建设:

标准名称 标准类型 是否现行有效 是否主导制修订工作

技术参数:可满足直径8英寸及以下尺寸单晶硅锭或片的中子辐照嬗变掺杂。

功能描述:在研究堆内对单晶硅锭或片进行中子辐照嬗变掺杂(NTD),会形成高均匀性、高精度掺磷杂质的N型单晶硅,该产品是制造半导体大功率器件、功率集成器件以及半导体集成电路等的关键基础材料,其在绿色能源、轨道交通、电网和集成电路产业等领域具有重要应用价值。

供货周期:60天

年最大供货量:30吨

是否面议:

价格:元/

典型应用履历:单晶硅原材料通过中子辐照嬗变掺杂后形成的N型单晶硅,应用于半导体器件。

其他说明:中子辐照嬗变掺杂技术不仅是单晶硅进行杂质掺杂的重要手段,还能实现Ge、GaAs、GaN、SiC等其它半导体材料的相应杂质掺杂。

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