发布时间:2023-04-16 09:44:37
发布单位:中国核动力研究设计院
规格型号/牌号:直径8英寸及以下尺寸单晶硅锭或片
关键字: 单晶硅; 中子辐照嬗变掺杂;
应用领域:无机非金属材料;
先进程度:国内领先
技术成熟度:八级
自主可控:是
知识产权类型:专有技术
知识产权:
专利名称 | 专利类型 | 专利号 | 授权时间 |
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技术来源:自主研发
标准建设:
标准名称 | 标准类型 | 是否现行有效 | 是否主导制修订工作 |
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技术参数:可满足直径8英寸及以下尺寸单晶硅锭或片的中子辐照嬗变掺杂。
功能描述:在研究堆内对单晶硅锭或片进行中子辐照嬗变掺杂(NTD),会形成高均匀性、高精度掺磷杂质的N型单晶硅,该产品是制造半导体大功率器件、功率集成器件以及半导体集成电路等的关键基础材料,其在绿色能源、轨道交通、电网和集成电路产业等领域具有重要应用价值。
供货周期:60天
年最大供货量:30吨
是否面议:是
价格:元/
典型应用履历:单晶硅原材料通过中子辐照嬗变掺杂后形成的N型单晶硅,应用于半导体器件。
其他说明:中子辐照嬗变掺杂技术不仅是单晶硅进行杂质掺杂的重要手段,还能实现Ge、GaAs、GaN、SiC等其它半导体材料的相应杂质掺杂。